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  • CIS-XRD-LT原位XRD高低溫反應池
    CIS-XRD-LT原(yuán)位XRD高低(dī)溫反應池

    產(chǎn)品型號

    CIS-XRD-LT

    廠(chǎng)商性質

    生產廠家

    更新(xīn)時間

    2026-04-09

    瀏覽次數(shù)

    302

    產品描(miáo)述

    合肥原位科技有(yǒu)限公司成立於2019年,是一家為材料,化工🙊,催化,能源(yuán),科研等行業客戶提(tí)供(gōng)製備合成及表(biǎo)征評價類儀器和專用設備的國家高新技術企業(yè)。公司(sī)總部位於合(hé)肥綜合性國(guó)家科學中心,在(zài)北京(jīng),深圳和成都設有銷(xiāo)售及技(jì)術支持中心,在全國多地配有駐地銷售人員。原位XRD高低溫反(fǎn)應池
  • CIS-XRD-T-53-P0原位(wèi)XRD低溫(wēn)反(fǎn)應(yīng)池
    CIS-XRD-T-53-P0原位XRD低溫反應池

    產品型號

    CIS-XRD-T-53-P0

    廠(chǎng)商性質

    生產廠家

    更新時間

    2026-04-09

    瀏覽次數

    397

    產品描述

    原位XRD低溫反應池主要用於研究材料(liào)在變溫(低溫)環境下的(dí)結構演(yǎn)化,具體情況根據(jù)實驗(yàn)需求定製。
  • CIS-XRD-T900高溫光(guāng)催化XRD反應池
    CIS-XRD-T900高溫光催(cuī)化XRD反應(yīng)池

    產品型號

    CIS-XRD-T900

    廠商性質

    生產廠家

    更新時間

    2026-04-09

    瀏覽次數

    445

    產品(pǐn)描述

    高溫光(guāng)催化(huà)XRD反應池🎄,具體(tǐ)情況根據實(shí)驗需(xū)求單獨定製。 產品參數: 1,池體材質:GH2747; 2,溫度範圍:室溫-900℃ 3,分離式樣品台:氮化鋁🥪; 4,窗口:光學藍寶石/聚酰(xiān)亞胺膜; 5,控溫精度:±0.1℃; 6,溫(wēn)度均匀性:±1℃; 7,池(chí)體外表(biǎo)麵溫(wēn)度(dù):≤40℃ 8,氣氛:可(kě)通氣氛; 9,水冷配置:1200w循(xún)環水冷機🐀; 10,溫(wēn)控配置🧩:定製溫(wēn)控儀,程序控溫,觸摸屏操
  • CIS-XRD-PEC光電催化XRD反應池
    CIS-XRD-PEC光電催化XRD反應池

    產品型(xíng)號

    CIS-XRD-PEC

    廠商性(xìng)質

    生產廠(chǎng)家

    更新時間

    2026-04-09

    瀏覽次數

    409

    產品描述

    光電催化XRD反應池應用於光電催化反應的原(yuán)位XRD表征,池體頂部開有石英光窗,池體(tǐ)左右(yòu)側(cè)開有聚酰亞胺(àn)窗口,配有參比電極,對(duì)電極(jí)及工作電(diàn)極🤟,可以(yǐ)在 不同波長光照🖸,不同電學條件下實現原位XRD測試,得到材料的結構變化🖸;反應池可(kě)以(yǐ)實現反應池內溶液(yè)中通(tōng)氣(qì)操(cāo)作,產(chǎn)品可選配溫控係統精確控製(zhì) 反應池測試溫度(dù)。
  • 原位XRD高溫(wēn)反應池
    原位XRD高溫(wēn)反應池

    產(chǎn)品型號

    廠商性質

    生(shēng)產廠家

    更新(xīn)時間(jiān)

    2026-04-09

    瀏覽(lǎn)次數

    499

    產品(pǐn)描(miáo)述(shù)

    原位XRD高溫反應池 池體材質:SUS316L; 窗口:聚酰亞胺; 密封(fēng)圈:矽(guī)膠🛙; 測試(shì)條件:常溫-600℃ ; 壓力範(fàn)圍:0-0.3MPa; 控溫(wēn)精度:0.1℃ ; 溫(wēn)度均匀性:±1℃ ; 氣(qì)氛:可通腐蝕(shí)性氣氛,如氨氣,二氧化硫等🔘; 水冷配置:270W循(xún)環冷水(shuǐ)機; 溫控:定製溫控儀,程序控(kòng)溫,觸摸屏操作。
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