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  • CIS-IRDR-PA-T500高溫等離(lí)子體漫反射池-原位紅(hóng)外
    CIS-IRDR-PA-T500高溫等離(lí)子(zǐ)體漫反射(shè)池-原位(wèi)紅外

    產品(pǐn)型號

    CIS-IRDR-PA-T500

    廠商性質(zhì)

    生產廠家

    更新時間

    2026-08-14

    瀏覽次數

    635

    產品描述

    高溫等(děng)離子(zǐ)體漫反射(shè)池-原(yuán)位紅外(wài) 設計溫(wēn)度:500℃或常溫可選; 設(shè)計壓力🔫:常壓; 產品材質(zhì): 不鏽鋼316+陶瓷; 光照窗片:石英; 紅外窗片: CaF2*2; 電極:中心高壓電極,環形(xíng)電極; 裝(zhuāng)置設置(zhì)進出氣口,可通入氣(qì)氛。
  • CIS-IRDR-EF電場池漫(màn)反射池(chí)-原(yuán)位紅外漫反射
    CIS-IRDR-EF電場(cháng)池漫反射池-原位(wèi)紅外漫反射

    產品型號

    CIS-IRDR-EF

    廠商(shāng)性質

    生產廠家

    更新時間

    2026-04-10

    瀏(liú)覽次數

    380

    產品描述

    電場(cháng)池漫反射池-原位紅外漫反射 設計溫度🏜:常溫~400℃(最高可定製650℃)🛝; 設計(jì)壓力:3MPa; 產(chǎn)品材(cái)質: 哈氏合金(jīn)+陶瓷(cí); 光照窗片:石英; 紅外窗片: ZnSe*2; 電極(jí)🍯:銅絲電極; 裝置設置進出氣口,可通入氣氛。
  • CIS-IRDR-LT高(gāo)低溫漫反射池-原(yuán)位(wèi)紅外漫反射
    CIS-IRDR-LT高低溫漫反射池-原位紅外(wài)漫反(fǎn)射

    產品型號

    CIS-IRDR-LT

    廠商性質

    生(shēng)產廠(chǎng)家(jiā)

    更新(xīn)時間

    2026-04-10

    瀏覽次(cì)數

    528

    產品描述

    高低溫(wēn)漫反射池(chí)-原(yuán)位(wèi)紅外漫反射(shè) 設計(jì)溫度:-150℃~300℃; 設計壓力:負壓(-150℃~RT),3MPa(RT~300℃); 池體材質(zhì)📸:池體池蓋 316L; 窗片材質(zhì):石英; 溫控(kòng)裝(zhuāng)置:程序控溫,觸摸屏操作(含配套軟件); 裝(zhuāng)置設置進出(chū)氣口,可通入氣體; 預留水(shuǐ)冷接口,配水冷機,對(duì)池體外側溫度進行保護; 配備液氮(dàn)罐液(yè)氮泵,控(kòng)製(zhì)液氮(dàn)流速;
  • CIS-IRDR-SD高(gāo)溫高(gāo)壓漫反射池(chí)-紅外(wài)漫(màn)反射(shè)
    CIS-IRDR-SD高溫高壓(yā)漫反(fǎn)射池-紅外漫(màn)反射

    產品型號

    CIS-IRDR-SD

    廠商性質

    生產廠家(jiā)

    更新時間

    2026-04-10

    瀏(liú)覽次數

    365

    產(chǎn)品描(miáo)述

    高溫高壓漫反射池-紅外漫反射 池體采(cǎi)用316L不鏽鋼材質,最高耐(nài)溫(wēn)500℃,耐壓3MPa🕴;哈氏合金材質,最高(gāo)耐溫800℃🧠,耐腐(fǔ)蝕🃨; 可以配備高精度觸摸屏溫控儀進行精確控溫(wēn)和(hé)加熱,同(tóng)時利用冷卻(què)循環(huán)裝置對反應池外部進行降(jiàng)溫; 腔(qiāng)帽有三(sān)個窗口(kǒu),其中兩個為紅(hóng)外窗口,一個為石英窗口,用(yòng)於引入外部(bù)光源(yuán)(光催化激發光源)或作(zuò)為觀(guān)察窗口使(shǐ)用;
  • CIS-IRDROA-SD漫反射附(fù)件(jiàn)-原位紅外
    CIS-IRDROA-SD漫反射附件-原位(wèi)紅外

    產(chǎn)品型號

    CIS-IRDROA-SD

    廠商性(xìng)質

    生產廠家

    更新時間

    2026-04-10

    瀏(liú)覽次數(shù)

    317

    產品描述

    漫反射附件-原位紅外 采用兩個6.3:1,90°鍍金離軸(zhóu)橢球麵🦆,能量反射率更高且鏡麵(miàn)更耐腐蝕; 可(kě)減小鏡麵反射的影響(xiǎng); 搭配帶有滑軌的底板可調節漫反射附件的位(wèi)置🖲,以(yǐ)便於提高漫(màn)反(fǎn)射附件的光通量; 鍍金平麵鏡偏轉調節(jié)裝置可調(tiáo)節漫(màn)反射附件的光通量,減少漫反射光中鏡(jìng)麵反射光的分量和相關光譜的失(shī)真; 能適配漫反射反應池(chí)實現(xiàn)不同環境下研究材料的反應🛳。
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